背照式CMOS：工艺和应用 背照式CMOS（Backside illuminated CMOS）是一种新型的图像传感器技术，它能够提供更高的灵敏度和更好的图像质量。相比传统的前照式CMOS，背照式CMOS将光线从背面进入，避免了光线经过电路层的损失，从而提高了光子的利用率和传感器的信噪比。本文将从工艺和应用两个方面对背照式CMOS进行详细介绍。 一、工艺 1. 制备过程 背照式CMOS的制备过程主要分为两个步骤：晶圆背面薄化和背面光刻。晶圆背面薄化是为了让光线更容易穿透进入传感器，而背面光刻则